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超高速顏料研磨均質(zhì)機

簡要描述:GMD2000系列超高速顏料研磨均質(zhì)機與同類設(shè)備的對比
.發(fā)熱問題。同類設(shè)備在加工過程中,高粘物料進入腔體后,因背壓力大而輸送效果差,導致物料在設(shè)備腔體中停留時間過長而導致嚴重發(fā)熱。RGS2000系列設(shè)備在確保效果的基礎(chǔ)上,減小了背壓阻力,提高了輸送能力,減少了停留時間,降低了物料發(fā)熱的狀況。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000/4
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-08-19
  • 訪  問  量:448
詳情介紹

超高速顏料研磨均質(zhì)機,染料分散設(shè)備,高剪切研磨均質(zhì)機,高速研磨均質(zhì)機,超細研磨均質(zhì)機

 

染料傳統(tǒng)的分散設(shè)備為批次研磨均質(zhì)機,隨著工業(yè)化的發(fā)展,以及染料行業(yè)的不斷進步,批次研磨均質(zhì)機的弊端暴露無遺,一是分散的不夠均勻,二是對于染料的細化能力不足。在這個大趨勢下,上海思峻自主研發(fā)了超高速高速研磨均質(zhì)機SGN超高速高速研磨均質(zhì)機采用分體式結(jié)構(gòu),轉(zhuǎn)速高達14000rpm,是批次研磨均質(zhì)機的4-5倍。物料一進一出,100%得到剪切分散,生產(chǎn)出來的染料產(chǎn)品,更加細膩均勻。

 

GMD2000系列超高速顏料研磨均質(zhì)機與同類設(shè)備的對比

  • 發(fā)熱問題。同類設(shè)備在加工過程中,高粘物料進入腔體后,因背壓力大而輸送效果差,導致物料在設(shè)備腔體中停留時間過長而導致嚴重發(fā)熱。RGS2000系列設(shè)備在確保效果的基礎(chǔ)上,減小了背壓阻力,提高了輸送能力,減少了停留時間,降低了物料發(fā)熱的狀況。

 

 

型號

 

標準流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

Rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

GMD2000/4

300-1,000

14,000

44

2.2

DN25

DN15

GMD2000/5

1,000-1,500

10,500

44

7.5

DN40

DN32

GMD2000/10

3,000

7,300

44

15

DN50

DN50

GMD2000/20

8,000

4,900

44

37

DN80

DN65

GMD2000/30

20,000

2,850

44

75

DN150

DN125

GMD2000/50

40,000

2,000

44

160

DN200

DN150

              

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求,上海思峻GM2000的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GMD2000系列。其剪切速率可以超過10000rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布就更窄。

 

超高速顏料研磨均質(zhì)機信息來源于www.sgnprocess。。com

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